潔淨室的溫度和濕度控製問題

潔淨室的溫濕度控製。潔淨實驗室高效安全的手術室空氣淨化係統，保證手術室的無菌環境，可以滿足器官移植、心髒、血管、人工關(guan) 節置換等手術所需的高度無菌環境。采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術室無菌環境的有力措施。實驗室淨化確保手術台潔淨度達標，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術室是一個(ge) "正壓"環境，其空氣壓力根據其不同區域（如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍幹淨區域等）潔淨度不同要求而不同。潔淨空間的溫度和濕度主要根據工藝要求確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮人們(men) 的舒適性。隨著空氣潔淨度要求的提高，對溫濕度的要求也越來越嚴(yan) 格。

具體(ti) 工藝的溫度要求將在後麵列出，但作為(wei) 一般原則，由於(yu) 加工精度越來越精細，對溫度波動範圍的要求越來越小。例如，在大型集成電路產(chan) 生的光刻曝光過程中，對玻璃和矽片作為(wei) 掩模板材料的熱膨脹係數的要求越來越小。直徑100um的矽芯片，溫度增加1度，造成0.24um線性膨脹，因此必須有0.1度的恒定溫度，同時需要一般低的濕度值，因為(wei) 出汗後，產(chan) 品會(hui) 受到汙染，尤其是害怕鈉的半導體(ti) 工場。這種車間不得超過25度。

高濕度的問題更多。當相對濕度超過55%時，如果發生在精密裝置或電路中，冷卻水壁上的凝結會(hui) 引起各種事故。相對濕度在50%時容易生鏽。此外，當濕度過高時，矽片表麵化學吸附的灰塵通過空氣中的水分子很難去除。相對濕度越高，去除膠粘劑的難度越大，但當相對濕度小於(yu) 30%時，由於(yu) 靜電的作用，顆粒很容易吸附在表麵，大量的半導體(ti) 器件容易分解。矽片生產(chan) 的最佳溫度範圍為(wei) 3545%。